Espuma de Ampola Centella de Madagascar

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Maat 125 ml

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Espuma de Limpeza Ampola SKIN1004 Madagascar Centella

Uma espuma de limpeza rica com pH ideal de 5, que remove eficazmente a maquiagem e as impurezas sem irritar a pele.

Esta espuma de limpeza em ampola, de cor castanha clara, possui um pH ideal de 5 e, por isso, é muito suave, pois não irrita a barreira cutânea. A espuma fina, criada pela fricção com a água, contém pó de sódio, que limpa eficazmente as partículas finas de pó. Após a utilização, a pele fica macia, sem sensação de repuxamento ou ressecamento. Além disso, a Espuma de Limpeza Ampola SKIN1004 Madagascar Centella contém 33% de extrato de Centella Asiática e protege intensamente a barreira cutânea durante a limpeza. Tal como todos os produtos da linha SKIN1004 Centella, esta ampola contém Centella Asiática, que cresce na ilha de Madagáscar, onde encontra as condições ideais para desenvolver ao máximo as suas propriedades nutritivas e protetoras. Recomendada para: todos os tipos de pele. Ingredientes principais: Extrato de Centella Asiática: Suaviza e repõe os níveis de hidratação da pele. Aplique uma quantidade adequada de creme de limpeza nas palmas das mãos úmidas e faça espuma esfregando as mãos. Massageie suavemente no rosto e enxágue com água morna.

Aqua (Água), Isetionato de Cocoil de Sódio, Glicerina, Taurato de Metil Cocoil de Sódio, Coco-Betaína, Extrato de Centella Asiática, Extrato da Raiz de Coptis Chinensis, Hialuronato de Sódio, Extrato de Eclipta Prostrata, Extrato do Fruto de Coccinia Indica, Extrato de Theobroma Cacao (Cacau), Cocoil Glicinato de Potássio, 1,2-Hexanodiol, Cloreto de Sódio, Cocoato de Potássio, Benzoato de Potássio, Poliquatérnio-67, Ácido Cítrico, Dextrina, Bicarbonato de Sódio, EDTA Dissódico, Acetato de Sódio, Butilenoglicol

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Uma espuma de limpeza rica com pH ideal de 5, que remove eficazmente a maquiagem e as impurezas sem irritar a pele.